[发明专利]气体供应设备

摘要

本发明涉及一种气体供应设备，是用于导引气体至电浆辅助化学气相沉积系统的一工艺腔体。这样的气体供应设备至少包括从工艺腔体的外部进入其内的一进气管、一工艺气体管、一清洁气体管、一远程电浆源以及一调变阀。所述远程电浆源连接一清洁气体源，而清洁气体管则连接进气管与远程电浆源，用以将一清洁气体自远程电浆源输入进气管。至于工艺气体管是连接上述进气管与一工艺气体源，用以将一工艺气体输入进气管。而调变阀是设置于进气管中，用来关闭上述清洁气体管与上述进气管之间的通路，以避免工艺气体导向上述工艺腔体期间进入清洁气体管。

主权项

气体供应设备，用于导引气体至一电浆辅助化学气相沉积系统的一工艺腔体，其特征在于，该气体供应设备包括：一进气管，从该工艺腔体的外部进入该工艺腔体内；一远程电浆源，连接一清洁气体源；一清洁气体管，连接该进气管与该远程电浆源，用以将一清洁气体自该远程电浆源输入该进气管；一工艺气体管，连接该进气管与一工艺气体源，用以将一工艺气体输入该进气管；以及一调变阀，设置于该进气管中，用来关闭该清洁气体管与该进气管之间的通路，以避免该工艺气体导向该工艺腔体期间进入该清洁气体管。