[发明专利]真空处理装置、真空处理系统和处理方法有效
| 申请号： | 200910254266.8 | 申请日： | 2009-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN101752173A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 南雅人;佐佐木芳彦;佐佐木和男 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种真空处理装置、真空处理系统和处理方法，真空处理装置即使被处理体大型化也能极力抑制真空处理容器的尺寸，真空处理系统能不使用大型搬送臂向真空处理装置搬送被处理体。从第一真空搬送装置(200a)内向等离子体处理装置(100)内浮起搬送基板(S)时，从搬送台(203)的浮起用气体喷射孔(207)向基板的背面喷射浮起用气体使其浮起状态下，利用一对引导装置(205)的保持部件(213)保持基板，使可动支承体(217)在轨道(215)上向等离子体处理装置移动。接着解除保持部件的保持，利用来自载置台(103)的气体喷射孔(103b)的气体使基板静止浮起，向等离子体处理装置交接基板。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 装置 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种真空处理装置，在真空状态下对被处理体实施规定的处理，其特征在于，包括：具有使被处理体搬入搬出的开口部的处理容器；在所述处理容器的内部支承被处理体的载置台；和向所述载置台供给气体的气体供给源，所述载置台包括：具有载置被处理体的载置面的载置台主体；形成在所述载置面上的多个气体喷射孔；和与所述气体喷射孔连通、形成在所述载置台主体的内部的气体流路，在通过以规定的压力从所述气体喷射孔向被处理体的背面喷射气体，使被处理体从所述载置面浮起的状态下，在所述真空处理装置与设置在所述处理容器的外部的真空搬送装置之间进行被处理体的交接。
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