[发明专利]一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法有效

专利信息
申请号: 200910254668.8 申请日: 2009-12-31
公开(公告)号: CN101950082A 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: 屈恩世;曹剑中;范哲源;周祚峰 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 徐平
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明突破传统固有思维,提出了一种全新的补偿像面照度的理论和方法,不影响成像系统的透过率,经理论计算验证和实验,采用适当的畸变,可以在较大的视场范围内增加像面的边缘照度,切实提高了提高像面照度的均匀性,尤其适合低照度大视场成像系统的光学系统工程设计。
搜索关键词: 一种 增加 视场 相对 照度 均匀 方法
【主权项】:
一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法,其特征在于:所述方法是改变光学系统的参数,使该光学系统发生负畸变。
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