[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 200910259041.1 | 申请日： | 2009-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN101813891A | 公开（公告）日： | 2010-08-25 |
| 发明（设计）人： | M·霍本 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻设备和器件制造方法。在浸没式光刻设备中，通过减小衬底台上的间隙大小或区域面积，减小或防止在浸没液体中的气泡形成。间隙大小采用边缘构件来减小，边缘构件可以是例如熟知的BES(气泡抽取系统)环的环。关于衬底的形状和/或横截面尺寸(例如直径)的信息，或关于间隙的大小的信息被传送到控制边缘构件的控制器，以便期望地，在不挤压衬底的边缘的情况下，例如将边缘构件减小到适当尺寸以尽可能地减小间隙。可选地或附加地，可以通过将衬底和/或边缘构件移动邻近所述衬底台的表面边缘来减小间隙。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种减小浸没式光刻设备中的衬底和衬底台之间的间隙的方法，所述方法包括步骤：测量所述衬底的物理性质；和减小限定在所述衬底的边缘和衬底台的表面边缘之间的间隙，所述衬底台将所述衬底支撑在所述浸没式光刻设备中，所述间隙基于所述衬底的所测量的物理性质而被减小。
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