[发明专利]等离子基板图层的涂覆方法和装置无效
申请号: | 200910259371.0 | 申请日: | 2009-12-22 |
公开(公告)号: | CN101728152A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 赵之明;田玉民;宋利建 | 申请(专利权)人: | 四川虹欧显示器件有限公司 |
主分类号: | H01J9/20 | 分类号: | H01J9/20 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚 |
地址: | 621000 四川省绵阳市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供了一种等离子基板图层的涂覆方法和装置,其中,该涂覆方法包括:在上述等离子基板上设置一层掩模,其中,上述掩模具有与上述待涂覆的图案相同的镂空结构;将浆料涂覆在带有上述掩模的等离子基板上;将所涂覆的浆料进行干燥;将上述掩模从上述等离子基板上去除。由于在基板上采用了掩模,所以克服了涂覆不均匀问题,此外,由于掩模的存在,使得可以连续涂覆,进而达到了提高涂覆效率的效果。 | ||
搜索关键词: | 等离子 基板图层 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子基板图层的涂覆方法,其特征在于,包括:在所述等离子基板上设置一层掩模,其中,所述掩模具有与所述待涂覆的图案相同的镂空结构;将浆料涂覆在带有所述掩模的等离子基板上;将所涂覆的浆料进行干燥;将所述掩模从所述等离子基板上去除。
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