[发明专利]超分辨率光学成像装置与方法无效
| 申请号： | 200910259937.X | 申请日： | 2009-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN101866060A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 何浩培;杨涛;李千秋;黄维;蔡潮盛 | 申请（专利权）人： | 南京邮电大学;香港中文大学 |
| 主分类号： | G02B27/58 | 分类号： | G02B27/58 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 叶连生 |
| 地址： | 210046 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公布了一种超分辨率光学成像的装置与方法，该成像装置由基底构成，所述基底上设置凹槽(台阶)，凹槽的深度(台阶的高度)设计，使得通过凹槽(台阶)与通过凹槽边缘(台阶外面)的光程差为成像物体发出光波长的一半。位于凹槽(台阶)正上方的光束投射到凹槽底面(台阶表面)；其它光束一半通过凹槽底面(台阶表面)，一半通过基底边缘，经由凹槽底面(台阶表面)与基底边缘的光束在基底发生自混合干涉相消，取得位于凹槽正上方的光束信息，从而突破衍射极限。本发明体积小，结构简单，实现了超分辨率成像。 | ||
| 搜索关键词： | 分辨率 光学 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种超分辨率光学成像装置，其特征在于该成像装置由基底(2)构成，所述基底(2)上设置凹槽(1)，凹槽(1)边缘正上方的入射光束分别通过凹槽(1)与凹槽(1)边缘，凹槽(1)的深度使得所述通过凹槽(1)的光束与通过凹槽(1)边缘的光束发生相消干涉，使得靠近凹槽(1)边缘的光因为相消干涉而在一定程度上不能直接透过该装置。
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