[发明专利]金属蚀刻液组合物及其蚀刻方法无效
| 申请号： | 200910260642.4 | 申请日： | 2009-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN102102206A | 公开（公告）日： | 2011-06-22 |
| 发明（设计）人： | 颜子钧;李家兴;邱少华;雷伯钧;李森雄;吕志鹏 | 申请（专利权）人： | 鑫林科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/14 | 分类号： | C23F1/14;C23F1/16;C23F1/02 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及金属蚀刻液组合物及其蚀刻方法。本发明提供一种用于蚀刻铜、铜合金、钼、钼合金、含有铜合金和钼合金的多层合金或铜/钼多层金属的金属蚀刻液组合物，该金属蚀刻液组合物包括氧化剂(6至30重量％)、螯合剂(0.1至10重量％)、含氮化合物(0.1至5重量％)、无机盐(0.2至10重量％)以及水性介质，其中所述无机盐包括硫酸盐(0.1至5重量％)和磷酸盐(0.1至5重量％)。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 蚀刻 组合 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种金属蚀刻液组合物，其包括氧化剂、螯合剂、含氮化合物、无机盐以及水性介质。
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