[发明专利]化学增幅正性抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 200910261381.8 | 申请日： | 2009-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN101770173A | 公开（公告）日： | 2010-07-07 |
| 发明（设计）人： | 宫川贵行;山本敏;藤裕介 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 吴贵明;张英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明提供了一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，包含：含有在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元的树脂、以及产酸剂，其中，基于所有的结构单元，该树脂含有按摩尔计40％至90％的在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元，并且在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元包含由式(I)表示的结构单元： |
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| 搜索关键词： | 化学 增幅 正性抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，包含：含有在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元的树脂、以及产酸剂，其中，基于所有的结构单元的总摩尔量，所述树脂包含按摩尔计40％至90％的所述在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元，并且所述在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元包含由式(I)表示的结构单元：![]()
其中，R1代表氢原子或甲基基团，Z代表单键或-(CH2)k-CO-O-，k代表1至4的整数，R2在各种情况下独立地是C1-C6烷基基团，以及m代表0至14的整数。
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