[发明专利]非易失性存储阵列和闪速EEPROM阵列无效
申请号: | 200910261936.9 | 申请日: | 2006-09-04 |
公开(公告)号: | CN101752386A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 崔定赫 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L29/423 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 李佳;穆德骏 |
地址: | 韩国京畿道水*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开了一种非易失性存储阵列和闪速EEPROM阵列。一种闪速EEPROM阵列,包括:其中具有第一浮置栅电极的第一行EEPROM单元,和在其中具有第二浮置栅电极的第二行EEPROM单元。该第一浮置栅电极包括至少一个水平部分和至少一个垂直部分,其共同限定朝向第一方向的第一浮置栅电极的第一L形部分。第二浮置栅电极包括至少一个水平部分和至少一个垂直部分,其共同限定朝向与第一方向相反的第二方向的第二浮置栅电极的第二L形部分。 | ||
搜索关键词: | 非易失性 存储 阵列 eeprom | ||
【主权项】:
一种非易失性存储阵列,包括:半导体衬底;第一行非易失性存储单元,其中包括具有第一不对称横断截面的浮置栅电极;以及第二行非易失性存储单元,紧邻所述第一行非易失性存储单元延伸,所述第二行非易失性存储单元其中包括具有第二不对称横断截面的浮置栅电极,当相对于所述半导体衬底的法线旋转180°时,该第二不对称横断截面示为等同于第一不对称横断截面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910261936.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:多媒体管理及播放装置及数据处理方法
- 下一篇:电磁辐射集中系统
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的