[发明专利]用于在衬底上形成微观结构的方法有效
| 申请号： | 200910262418.9 | 申请日： | 2009-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN101746709A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | A·F·德琼格;J·J·L·穆尔德斯;A·J·M·麦克库斯;W·M·M·克塞尔斯 | 申请（专利权）人： | FEI公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李娜;蒋骏 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于在衬底上形成微观结构的方法。通过在有前驱物流体时在衬底上扫描聚焦粒子束，形成图案化种子层。现在通过利用原子层沉积或化学汽相沉积来生长该层，能够生长高质量层。该方法的优点在于由于仅需要沉积非常薄的层所以形成所述种子层花费相对很少的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 衬底 形成 微观 结构 方法 | ||
【主权项】：
一种在衬底上形成微观结构的方法，所述方法包括：提供具有表面(11)的衬底(10)，在所述衬底的表面上形成具有预期形状的图案化种子层(12)，以及以使得形成具有与所述衬底的表面基本平行的表面(14)的结构(13)的方式加厚所述图案化种子层，其特征在于形成所述图案化种子层包括在有前驱物流体或刻蚀流体(16)时利用聚焦束(15)照射衬底。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于FEI公司，未经FEI公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910262418.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
