[发明专利]半导体器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910265286.5 申请日: 2009-12-30
公开(公告)号: CN101771034A 公开(公告)日: 2010-07-07
发明(设计)人: 金钟玟;俞在炫;朴赞镐 申请(专利权)人: 东部高科股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/78;H01L29/06;H01L21/82;H01L21/336
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 郑小军;陈昌柏
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种半导体器件及其制造方法,所述半导体器件包括:有源区,由器件隔离层限定且位于衬底上和/或上方;第二导电阱,位于该有源区上和/或上方;扩展漏极,形成在该第二导电阱的一侧;栅电极,位于该第二导电阱和该扩展漏极上和/或上方;以及源极和漏极,形成在该栅电极的两侧,其中扩展区域在该栅电极下方形成在该第二导电阱的角部。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种器件,包括:有源区,由器件隔离层限定且位于衬底上方;第二导电阱,位于该有源区上方;扩展漏极,形成在该第二导电阱的一侧;栅电极,位于该第二导电阱和该扩展漏极上方;以及源极和漏极,形成在该栅电极的两侧;其中扩展区域在该栅电极下方形成在该第二导电阱的角部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东部高科股份有限公司,未经东部高科股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910265286.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top