[发明专利]微机电系统传感器及微机电系统传感器的制造方法无效
申请号: | 200910265656.5 | 申请日: | 2009-12-28 |
公开(公告)号: | CN101850943A | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
发明(设计)人: | 服部敦夫 | 申请(专利权)人: | 雅马哈株式会社 |
主分类号: | B81B7/02 | 分类号: | B81B7/02;B81C1/00;G01P15/12 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 葛青 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种微机电系统传感器及其制造方法。在SOI中,在支撑基底中限定出用于将质量体和支撑体分离的沟道,在半导体层中限定出十字形柔性梁。在柔性梁的交叉区域中和在支撑体的上方的环形区域中对SOI的半导体层和中间绝缘层进行蚀刻。在被蚀刻的凹入部中掩埋连接件层。将半导体层构图为位于质量体上方的十字形柔性梁。在支撑体基底中蚀刻沟道,以暴露中间绝缘层,随后蚀刻中间绝缘层以在质量体和柔性梁之间形成间隙。在交叉区域的连接件层将质量体和柔性梁联接,并且在柔性梁外侧的连接件层将柔性梁和支撑体联接。止挡件通过在质量体角部的上方延伸连接件层而形成,或者通过保留半导体层而形成。 | ||
搜索关键词: | 微机 系统 传感器 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种微机电系统传感器,包括:质量体;支撑体,其通过环形沟道包围所述质量体并与该质量体分离,所述支撑体和所述质量体由共同的基底形成;柔性梁,其具有压敏电阻件并且由半导体层形成,该半导体层从所述基底的上表面向上分开第一距离;第一连接件,其延伸穿过所述柔性梁的中央区域并到达所述质量体,所述第一连接件使所述柔性梁和所述质量体机械地联接;第二连接件,其接触所述柔性梁的各远端并延伸穿过所述半导体层,到达所述支撑体,所述第二连接件使所述柔性梁和所述支撑体机械地联接。
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