[发明专利]用于光刻法的组合物和方法有效
| 申请号： | 200910266811.5 | 申请日： | 2009-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102053492A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | D·王;C·吴 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/09;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;周承泽 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了在光刻胶组合物上施涂的顶涂层组合物。该组合物特别适用于浸没光刻法工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种适用于在光刻胶层上形成顶涂层的组合物，该组合物包含：互不相同的第一树脂、第二树脂和第三树脂，其中所述第一树脂包含一种或多种氟化基团，所述第一树脂占所述组合物的重量比例大于所述第二和第三树脂各自的重量比例，其中所述第二树脂的表面能低于所述第一树脂和第三树脂的表面能，和其中所述第三树脂包含一种或多种强酸基团。
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