[发明专利]双正交衍射光栅计量系统及其构成的共基面扫描工作台无效
| 申请号： | 200910272840.2 | 申请日： | 2009-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN101701803A | 公开（公告）日： | 2010-05-05 |
| 发明（设计）人： | 刘晓军;冼开逸;何章宏 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01B11/25 | 分类号： | G01B11/25;G01B11/02 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双正交衍射光栅二维同步计量系统，包括两正交衍射光栅，激光源发出的光垂直入射一光栅的工作面，并透射到另一正交衍射光栅的工作面上，被光电接收器接收，通过光电接收器抓取任意点光强变化并分析，从而实现两个方向的同步位移测量，保证较高的二维定位精度。本发明还提供了采用上述计量系统的扫描平台，该扫描平台的双向导轨处于同一平面，形成稳定可靠的测量基准面，提高了定位精度。本发明主要运用于三维形貌测量，同时可应用于精密加工、半导体光刻、微型装配等需要精密工作台协同运动的领域。 | ||
| 搜索关键词： | 正交 衍射 光栅 计量 系统 及其 构成 共基面 扫描 工作台 | ||
【主权项】：
双正交衍射光栅二维同步计量系统，包括静光栅座(4)和位于其下方的动光栅座(5)，在静光栅座(4)和动光栅座(5)上分别安装有第一，第二正交衍射光栅(11a，11b)，正交衍射光栅是刻蚀有双向正交栅线的光栅，第一正交衍射光栅(11a)的工作面位于第二正交衍射光栅(11b)工作面的正上方，两光栅的对应栅线平行；静光栅座(4)上设有激光源，激光源发出的光垂直入射第一正交衍射光栅(11a)的工作面，并透射到第二正交衍射光栅(11b)的工作面上，最终被一光电接收器接收。
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