[发明专利]一种红外双波段减反射膜膜系及其镀制方法

摘要

本发明公开了一种红外双波段减反射膜膜系及其镀制方法，属于光学薄膜制造技术。本发明膜系由六层或八层膜组成，优选为六层膜组成，由内到外依次为Ge膜、ZnS膜、Ge膜、ZnS膜、YbF₃膜、ZnS膜，每层膜的光学厚度由内到外依次为895nm、306nm、422nm、1626nm、770nm、200nm。本发明的镀制方法为首先清洁被镀零件，之后烘烤基底，再依次镀制Ge膜、ZnS膜等膜层。采用本发明的膜系和镀制方法得到的光学零件在3.7μm～4.8μm和7.7μm～10.5μm两个波段范围的透射率大于98％，膜层的附着力及环境适应性满足光学薄膜国家军用标准GJB2485-95规定的要求。

主权项

1.一种红外双波段减反射膜膜系，其特征在于，该膜系由6层或8层膜组成，由6层膜组成时，由内到外依次为Ge膜、ZnS膜、Ge膜、ZnS膜、YbF3膜、ZnS膜，每层膜的光学厚度由内到外依次为895nm、306nm、422nm、1626nm、770nm、200nm；由8层膜组成时，由内到外依次为Ge膜、ZnS膜、Ge膜、ZnS膜、Ge膜、ZnS膜、YbF3膜、ZnS膜，每层膜的光学厚度由内到外依次为130nm、20nm、2650nm、354nm、384nm、1520nm、1120nm、70nm。