[发明专利]深孔内壁电弧离子镀膜方法有效

专利信息
申请号: 200910303933.7 申请日: 2009-07-02
公开(公告)号: CN101597750A 公开(公告)日: 2009-12-09
发明(设计)人: 林国强;石昌仑;王文涛;刘琪 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 大连理工大学专利中心 代理人: 侯明远
地址: 116085辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 深孔内壁电弧离子镀膜方法属于材料科学与工程技术领域。涉及一种用电弧离子镀在具有深孔结构的模具和管子内壁沉积薄膜的方法。其特征在于,在镀膜过程中同时使用工件周围的不均匀磁场与脉冲偏压,利用电磁场与等离子体的相互作用达到在深处镀膜的目的。使用的磁铁的磁感应强度为500~8000高斯、长度20~150mm,磁铁到工件孔内壁和孔端面的距离与磁感应强度成正比,符合L=(B±500)/40(mm)关系;使用的脉冲偏压幅值为200~800V,频率5~40kHz,占空比5~40%。其效果和益处是在具有管孔结构的工件内壁镀膜,镀膜的深度大于2倍孔径。广泛用于机械制造领域中具有内孔结构的零件和模具的内表面镀膜。
搜索关键词: 内壁 电弧 离子 镀膜 方法
【主权项】:
1.深孔内壁电弧离子镀膜方法,是将具有管孔结构的工件清洗干燥后放入电弧离子镀的真空室中,经过抽真空、通氩气、启弧、加负偏压、溅射清洗、通反应气体、镀膜、停弧、断电和炉冷阶段后取出工件,其特征在于:在具有管孔结构的工件周围布置永磁铁和在镀膜阶段使用脉冲偏压,布置的永磁铁的磁感应强度为500~8000高斯、长度为20~100mm,磁铁几何中心点到工件(3)和孔(6)端面的距离L与磁铁的磁感应强度B成正比,并符合L=B/40±50关系,其中B的单位为高斯,L的单位为毫米;使用的脉冲偏压的为幅值200~800V,频率5~40kHz,占空比5~40%。
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