[发明专利]一种微正压状态下生长多晶硅锭的方法和铸锭炉无效

专利信息
申请号: 200910304181.6 申请日: 2009-07-09
公开(公告)号: CN101660200A 公开(公告)日: 2010-03-03
发明(设计)人: 郑智雄;马殿军;张伟娜;南毅;王致绪;徐诗双;洪朝海;程香 申请(专利权)人: 南安市三晶阳光电力有限公司
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06;C30B27/00;C30B29/06;C01B33/021
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 代理人: 张松亭
地址: 362000福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种微正压状态下生长多晶硅锭的方法和铸锭炉。该方法采用先抽真空,再充氩气至正压状态的气压模式熔炼多晶硅;该铸锭炉设置一个超压自动放气阀及防爆阀。采用微正压下生长多晶硅锭,可减少氩气用量,并可防止气体倒流,更加安全,同时可防止多晶硅铸锭氧化。
搜索关键词: 一种 正压 状态 生长 多晶 方法 铸锭
【主权项】:
1.一种微正压状态下生长多晶硅锭的方法,包括以下步骤:a、将多晶硅材料装入石英坩埚中,封闭炉室,开循环水后抽真空;b、通入氩气,控制氩气流量大于真空泵抽速,炉室气压稳定后,关闭真空泵,开排气阀,调整氩气流量,使炉室内保持压力为1.01~1.05个大气压;c、逐渐加大加热功率,进行多晶硅的加热熔化,结晶,退火,冷却几个步骤,在此过程中炉室内压力保持1.01~1.05个大气压;d、步骤c完成后,关闭氩气,取出多晶硅铸锭。
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