[发明专利]一种非平衡磁控溅射稀土类石墨复合膜及其制备方法有效
申请号: | 200910304713.6 | 申请日: | 2009-07-23 |
公开(公告)号: | CN101613855A | 公开(公告)日: | 2009-12-30 |
发明(设计)人: | 王佐平;张镜斌;陈鹏波;何源;孙长涛;李海军 | 申请(专利权)人: | 中国船舶重工集团公司第十二研究所 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/16 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 | 代理人: | 罗 笛 |
地址: | 71310*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开的一种非平衡磁控溅射稀土类石墨复合膜,由依次复合的等离子渗金属层、Cr/RE过渡层、C/Cr-RE梯度层及C/Cr-RE复合层组成;其中,Cr/RE过渡层按照质量百分比其组成为:RE:0.1%~1%,余量为Cr,各组分的质量百分比之和为100%;C/Cr-RE复合层按照质量百分比其组成为:Cr:3%~20%,RE:0.3%~10%,余量为C,各组分的质量百分比之和为100%。本发明制备非平衡磁控溅射稀土类石墨复合膜的方法,首先确定稀土类石墨复合膜成分,计算高纯铬靶和高纯碳靶上安装的稀土镶块的数量,在高纯铬靶和高纯碳靶上加工镶块安装孔,制备高纯铬镶块、高纯碳镶块和高纯稀土镶块,并进行安装,磁控溅射得到复合膜。本发明非平衡磁控溅射稀土类石墨复合膜,解决了现有的非平衡磁控溅射固体润滑复合膜热稳定性和抗电化学腐蚀性差的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 平衡 磁控溅射 稀土 石墨 复合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种非平衡磁控溅射稀土类石墨复合膜,其特征在于,由依次复合的等离子渗金属层(2)、Cr/RE过渡层(3)、C/Cr-RE梯度层(4)及C/Cr-RE复合层(5)组成,其中的Cr/RE过渡层(3)按照质量百分比其组成为:RE:0.1%~1%,余量为Cr,各组分的质量百分比之和为100%;其中的C/Cr-RE复合层(5)按照质量百分比其组成为:Cr:3%~20%,RE:0.3%~10%,余量为C,各组分的质量百分比之和为100%。
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