[发明专利]电磁屏蔽膜及具有该电磁屏蔽膜的镜头模组有效
| 申请号： | 200910307685.3 | 申请日： | 2009-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN102036541A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 洪新钦 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00;G02B5/20;B32B15/01;H04N5/225 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种电磁屏蔽膜，该电磁屏蔽膜形成于光学元件上，光学元件有用于改善光学性能的滤光膜，滤光膜上覆盖有用于限制光线进入的遮光膜，遮光膜上覆盖有电磁屏蔽膜。该电磁屏蔽膜包括第一金属层及第二金属层，第一金属层为不锈钢材料，第一金属层直接形成于第一金属层遮光膜表面，第二金属层是铜，第二金属层形成于第一金属层表面。本发明提供的电磁屏蔽膜没有采用完全是铜的膜层直接附着在遮光膜表面上，从而避免因铜直接附着在遮光膜上产生的应力大、附着性差问题，并可以获得更厚的膜，达到更好的电磁屏蔽效果。另，本发明还提供一种具有所述电磁屏蔽膜的镜头模组。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁 屏蔽 具有 镜头 模组 | ||
【主权项】：
一种电磁屏蔽膜，该电磁屏蔽膜形成于光学元件上，所述光学元件有用于改善光学性能的滤光膜，所述滤光膜上覆盖有用于限制光线进入的遮光膜，所述遮光膜上覆盖有所述电磁屏蔽膜，其特征在于，该电磁屏蔽膜包括第一金属层及第二金属层，所述第一金属层为不锈钢材料，所述第一金属层直接形成于所述遮光膜表面，所述第二金属层是铜，所述第二金属层形成于所述第一金属层表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司，未经鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910307685.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
