[发明专利]喷涂遮蔽结构及采用该结构的喷涂遮蔽方法无效

专利信息
申请号: 200910310740.4 申请日: 2009-12-01
公开(公告)号: CN102078852A 公开(公告)日: 2011-06-01
发明(设计)人: 郑振兴 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: B05D1/32 分类号: B05D1/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种喷涂遮蔽结构,用于对工件的非喷涂面进行遮蔽,工件包括自喷涂面凹陷的凹槽,凹槽的底面为非喷涂面,喷涂遮蔽结构包括第一遮蔽件及第二遮蔽件,第一遮蔽件具有一抵持面及与抵持面相对的遮蔽面,第一遮蔽件可收容于凹槽并使遮蔽面朝向凹槽的底面,第二遮蔽件具有与第一遮蔽件的抵持面配合的抵顶面,抵持面及抵顶面边缘的轮廓形状与凹槽的底面边缘的轮廓形状相同。上述喷涂遮蔽结构通过抵持面及抵顶面形成的缝隙对涂料产生吸附作用而吸附部分涂料,这样可减少或避免涂料自凹槽与第一遮蔽件、第二遮蔽件之间缝隙而流至底面,从而提高喷涂质量。
搜索关键词: 喷涂 遮蔽 结构 采用 方法
【主权项】:
一种喷涂遮蔽结构,用于对工件的非喷涂面进行遮蔽,工件包括自喷涂面凹陷的凹槽,所述凹槽的底面为非喷涂面,所述喷涂遮蔽结构包括第一遮蔽件,所述第一遮蔽件具有一抵持面及与抵持面相对的遮蔽面,所述第一遮蔽件可收容于所述凹槽并使所述遮蔽面朝向所述凹槽的底面,其特征在于:所述喷涂遮蔽结构还包括第二遮蔽件,所述第二遮蔽件具有与第一遮蔽件的抵持面配合的抵顶面,所述抵持面及抵顶面边缘的轮廓形状与所述凹槽的底面边缘的轮廓形状相同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司,未经鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910310740.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top