[发明专利]基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的存储方法有效

专利信息
申请号: 200910312948.X 申请日: 2009-12-31
公开(公告)号: CN102117656A 公开(公告)日: 2011-07-06
发明(设计)人: 王琴;杨潇楠;刘明;王永 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G11C16/04 分类号: G11C16/04;G11C16/10
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 王建国
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的存储方法,属于存储器技术领域。所述存储方法采用热电子注入为编程方式,以FN隧穿为擦除方式,以读电流大小来区分00、01、10、11四种存储状态,从而可以在同样的面积下实现多值存储,使存储量增大两倍。本发明采用新的编程方式,在源漏两端同时编程操作,并形成多值存储,这大大地提高了编程效率,同时增大了存储窗口,实现更多点子的存储,并在同样大小的存储单元上实现了两倍于之前的存储量;另外,在实现此优点的同时并未改变制造工艺,大大降低了成本。
搜索关键词: 基于 纳米 晶浮栅 结构 多值非 挥发性 存储器 存储 方法
【主权项】:
一种基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的存储方法,其特征在于,所述方法包括:在基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的字线、位线和源端线分别施加第四电压、第三电压和第一电压,以在选中的存储器中存储二进制数据10;在基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的字线、位线和源端线分别施加第四电压、第一电压和第三电压,以在选中的存储器中存储二进制数据01;先在基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的字线、位线和源端线分别分别施加第四电压、第三电压和第一电压;然后在基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的字线、位线和源端线分别分别施加第四电压、第一电压和第三电压,以在选中的存储器中存储二进制数据00;或在基于纳米晶浮栅结构的多值非挥发性存储器的字线、位线和源端线分别分别施加第五电压、第一电压和第一电压,以在选中的存储器中存储二进制数据11。
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