[发明专利]不对称复合膜的制备方法无效
申请号: | 200911000175.8 | 申请日: | 2009-12-04 |
公开(公告)号: | CN101797482A | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | R·A·哈钦森;H·M·杜;R·塔马基 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | B01D71/04 | 分类号: | B01D71/04;B01D69/12;B01D69/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 段晓玲;韦欣华 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种制备不对称膜的方法,包括将含有电子束反应基团的聚合物涂覆在多孔基底膜上以形成涂层;用高能源辐射经涂覆的多孔基底膜;以及将电子束反应基团永久性地接枝到多孔基底膜上以形成填充膜孔隙的涂层。 | ||
搜索关键词: | 不对称 复合 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种制备不对称膜的方法,该方法包括:将含有电子束反应基噟¢的聚合物涂覆在多孔基底膜上以形成涂层;用高能源辐射所述经涂覆的多孔基底膜;以及将所述电子束反应基团永久性地接枝到所述多孔基底薄膜上以形成填充膜孔隙的涂层。
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