[实用新型]等离子体辅助化学气相沉积装置无效

专利信息
申请号: 200920008308.5 申请日: 2009-03-26
公开(公告)号: CN201442988U 公开(公告)日: 2010-04-28
发明(设计)人: 林伟德;罗顺远;陈友凡;杨宏河;孙湘平 申请(专利权)人: 富临科技工程股份有限公司
主分类号: C30B25/00 分类号: C30B25/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周长兴
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种等离子体辅助化学气相沉积装置,包括:反应腔、承载板、电极、多个电极支撑件、进气装置、以及排气装置。高度调整件配置于反应腔外。承载板与电极互相对应并配置于反应腔内。电极支撑件位于电极的一侧并抵顶电极,并穿出反应腔而连接至高度调整件。进气装置及排气装置分别连接至反应腔。本实用新型的等离子体辅助化学气相沉积装置,由于承载板为固定式的设计,因此反应腔下方机械体积可得到大幅减少,可使等离子体辅助化学气相沉积装置整体厚度下降,可利用多出的空间堆叠多个处理腔进行批次工艺,有效的大幅提升产能。
搜索关键词: 等离子体 辅助 化学 沉积 装置
【主权项】:
一种等离子体辅助化学气相沉积设备,其特征在于,包括:一加载单元;一输出单元;至少一反应单元;以及一传输单元;其中,该加载单元、该输出单元、以及该反应单元系围绕该传输单元的周围而配置,或配置于该传输单元的一侧,并分别与该传输单元连接;该至少一反应单元各自独立地包括二个以上的等离子体辅助化学气相沉积装置,且该二个以上的等离子体辅助化学气相沉积装置互相堆叠而配置。
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