[实用新型]高浓度印染废水处理回用装置有效
| 申请号： | 200920130455.X | 申请日： | 2009-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN201433121Y | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | 文秋红;丁健生;王小仙 | 申请（专利权）人： | 宇星科技发展(深圳)有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/48 | 分类号： | C02F1/48;B01D21/28 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 | 代理人： | 冯 筠;李新林 |
| 地址： | 518000广东省深圳市南山区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种废水处理回用装置，特别是一种用于高浓度印染废水处理回用装置。包括移动平台、混凝池、磁场沉降池、搅拌器、磁流体添加器、磁电极、出水堰箱，混凝池和磁场沉降池安置在移动平台上，搅拌器安装在混凝池内，磁流体添加器安装在混凝池上方，磁电极安装在磁场沉降池内，出水堰箱安装在磁场沉降池上方。本实用新型可使复杂的处理过程在10min之内完成，并且高浓度印染废水经一次处理CODCr去除率在75％-80％，SS去除率在80％以上，色度一般在95％以上，处理后的回用水用于染色漂洗等各工序中，节能减排，减少取水量，节约水资源，保护自然资源。 | ||
| 搜索关键词： | 浓度 印染 废水处理 装置 | ||
【主权项】：
1、一种高浓度印染废水处理回用装置，包括移动平台、混凝池、磁场沉降池、搅拌器、磁流体添加器、磁电极层、出水堰箱，其特征在于：混凝池和磁场沉降池安置在移动平台上，搅拌器安装在混凝池内，磁流体添加器安装在混凝池上方，磁电极层安装在磁场沉降池内，出水堰箱安装在磁场沉降池上方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宇星科技发展(深圳)有限公司，未经宇星科技发展(深圳)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200920130455.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
