[实用新型]监控靶面状态的装置无效
| 申请号： | 200920135194.0 | 申请日： | 2009-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN201305626Y | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 徐日宏 | 申请（专利权）人： | 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所 | 代理人： | 胡吉科 |
| 地址： | 518000广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种磁控溅射阴极靶面状态监控装置。本实用新型构建了一种监控靶面状态的装置，包括检测等离子体表面光强的光纤系统、光电倍增器、磁控溅射阴极，还包括监控阴极靶面状态的等离子光谱监控系统以及控制反应气体的气体控制系统，所述等离子光谱监控系统根据光纤系统传输的监控信号向气体控制系统发出指令控制反应气体流量。本实用新型能更精确更及时地控制气体流量，使镀膜过程更加稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 监控 状态 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种监控靶面状态的装置，包括检测等离子体表面光强的光纤系统、光电倍增器、磁控溅射阴极，其特征在于：还包括监控镀膜靶面状态的等离子光谱监控系统以及控制反应气体的气体控制系统，所述等离子光谱监控系统根据光纤系统传输的监控信号向气体控制系统发出指令控制压电阀的开度，从而控制反应气体流量。
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