[实用新型]发光二极管支架改良结构有效
| 申请号： | 200920150561.4 | 申请日： | 2009-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN201440425U | 公开（公告）日： | 2010-04-21 |
| 发明（设计）人： | 陈立敏 | 申请（专利权）人： | 一诠精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人： | 许志勇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种发光二极管支架改良结构，在支架延伸部之边缘设置间断式的阻隔区段，在封装胶体于支架延伸部之边缘所产生的虹吸现象，可控制仅发生于间断式的阻隔区段中，藉此可以达成控制虹吸现象发生以防止封装胶体尺寸产生太大变化的技术功效。 | ||
| 搜索关键词： | 发光二极管 支架 改良 结构 | ||
【主权项】：
一种发光二极管支架改良结构，其特征在于，包含：一第一支架，包含有一第一顶端部及一第一延伸部，该第一延伸部自该第一顶端部向下延伸，该第一顶端部设置有内凹之一凹陷部，该凹陷部是用于固接一发光二极管芯片，并且该第一延伸部之边缘凹设有至少一阻隔区段；及一第二支架，包含有一第二顶端部及一第二延伸部，该第二延伸部自该第二顶端部向下延伸，该第二顶端部与该发光二极管形成电性连接，并且该第二延伸部之边缘凹设有至少一阻隔区段。
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