[实用新型]兼具批次与连续作业的真空装置无效
申请号: | 200920161896.6 | 申请日: | 2009-07-20 |
公开(公告)号: | CN201549480U | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | 黄泳钊;郑博仁;许建志 | 申请(专利权)人: | 北儒精密股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/677 |
代理公司: | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 | 代理人: | 王昭林;崔华 |
地址: | 中国台湾台南*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种兼具批次与连续作业的真空装置,包含:一腔体、一批次作业机构以及一连续作业机构。该批次作业机构包括一设置在该腔体中的主轴单元、一连结并驱动该主轴单元转动的第一动力源,以及至少一个受该主轴单元带动而运作并供多片第一基板摆放的从动轴单元。该连续作业机构包括至少一个输送单元,该输送单元包括一第二动力源,以及一受该第二动力源驱动而转动并用于输送一第二基板的输送轮。借由同时设置该批次作业机构及连续作业机构,可视作业需求而选择进行批次或连续作业,达到双重使用、应用性广等优点。 | ||
搜索关键词: | 兼具 批次 连续 作业 真空 装置 | ||
【主权项】:
一种兼具批次与连续作业的真空装置,包含:一个腔体,包括上下间隔的一个底壁与一个顶壁、一个连接在所述底壁与顶壁之间的围壁,以及一个由所述底壁、顶壁与围壁共同界定出的腔体空间,其特征在于,所述兼具批次与连续作业的真空装置还包含:一个批次作业机构,包括一个设置在所述腔体空间的主轴单元、一个连结并驱动所述主轴单元转动的第一动力源,以及至少一个受所述主轴单元带动而运作的从动轴单元;及一个连续作业机构,设置在所述腔体空间,并包括至少一个输送单元,所述输送单元包括一个第二动力源,以及一个受所述第二动力源驱动而转动的输送轮。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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