[实用新型]一种带有内加热器的PECVD系统无效
申请号: | 200920166871.5 | 申请日: | 2009-07-21 |
公开(公告)号: | CN201427992Y | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
发明(设计)人: | 吴文基;郑泽文;刘丽娟 | 申请(专利权)人: | 深圳市宇光高科新能源技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/24 |
代理公司: | 北京安博达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐国文 |
地址: | 518116广东省深圳市龙岗*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种带有内加热器的PECVD系统,包括真空室和置于真空室内的可移式等离子箱,所述真空室的外周四壁上设有加热板,所述可移式等离子箱至少为两个,各可移式等离子箱平行排列于真空室内,各可移式等离子箱之间设有用于使真空室内均匀受热的内加热器。此装置大大提高了单室沉积系统的产量,又避免传统加热方式造成的温度分布不均衡问题,本实用新型有效解决了在带有TCO的玻璃衬底上沉积的硅基薄膜的厚度不均匀性,提高了大面积硅基薄膜太阳电池的性能,为研发大面积PECVD薄膜沉积系统奠定了基础,有力推动硅薄膜电池技术产业化。 | ||
搜索关键词: | 一种 带有 加热器 pecvd 系统 | ||
【主权项】:
1、一种带有内加热器的PECVD系统,该系统包括带有进、出气口(20、7)的真空室(1)和置于真空室内可移式等离子箱(2),所述真空室的外周四壁上设有加热板(5),其特征在于:该系统中的可移式等离子箱(2)至少为两个,各可移式等离子箱(2)平行排列于真空室内,各可移式等离子箱之间设有用于使真空室内均匀受热的内加热器(3)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的