[实用新型]一种研磨抛光装置无效
| 申请号： | 200920183296.X | 申请日： | 2009-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN201685153U | 公开（公告）日： | 2010-12-29 |
| 发明（设计）人： | 徐柏龄 | 申请（专利权）人： | 徐柏龄 |
| 主分类号： | B24B7/18 | 分类号： | B24B7/18;B24B47/00 |
| 代理公司： | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人： | 李宁 |
| 地址： | 中国台湾花莲县吉*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种研磨抛光装置，该研磨抛光装置包括转盘、可转动且对称设置在转盘上的多个磨盘以及与转盘固定相连并驱动转盘转动的主转轴，每一磨盘非磨抛的一侧还设置有传送轮，该转盘轴心处还设置有太阳轮，该太阳轮与所有传送轮通过传送带而相互传动，该研磨抛光装置还包括次转轴，该次转轴与太阳轮相连而保持同步转动，该主转轴与次转轴同轴设置。本实用新型涉及的研磨抛光装置转盘动平衡好，从而使得整体磨抛效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨抛光装置，包括转盘、可转动且对称设置在转盘上的多个磨盘以及与转盘固定相连并驱动转盘转动的主转轴，每一磨盘非磨抛的一侧还设置有传送轮，该转盘轴心处还设置有太阳轮，该太阳轮与所有传送轮通过传送带而相互传动，其特征在于，该研磨抛光装置还包括次转轴，该次转轴与太阳轮相连而保持同步转动，该主转轴与次转轴同轴设置。
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