[实用新型]光罩掩模有效
| 申请号： | 200920208081.9 | 申请日： | 2009-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN201562121U | 公开（公告）日： | 2010-08-25 |
| 发明（设计）人： | 舒强;顾一鸣 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/08 | 分类号： | G03F1/08 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型的光罩掩模包括不透明区域和透明区域，所述透明区域包围不透明区域。本实用新型的光罩掩模将不透明区域设置在中间，透明区域包围不透明区域，符合仅仅遮蔽光罩中间部分的实际需要；不透明区域其大小、位置和形状可根据实际情况作调整，使得光罩掩模的适用性强。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩掩模 | ||
【主权项】：
一种光罩掩模，包括不透明区域和透明区域，其特征在于，所述透明区域包围不透明区域。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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