[实用新型]用于多晶槽式制绒设备的补液系统无效
申请号: | 200920208699.5 | 申请日: | 2009-08-31 |
公开(公告)号: | CN201478278U | 公开(公告)日: | 2010-05-19 |
发明(设计)人: | 周柏林;袁佩君;大石满 | 申请(专利权)人: | 北京中联科伟达技术股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L31/18 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 胡晶 |
地址: | 100012 北京市朝阳区北苑路4*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开一种用于多晶槽式制绒设备的补液系统,包括原液箱、管路系统、称量槽、混液槽、隔膜泵、流量计、气控阀;原液箱与分别称量槽、混液槽连接,称量槽、混液槽相连,其中原液箱与称量槽之间依次设有隔膜泵、管路系统,原液箱与混液槽之间设置气控阀;称量槽、混液槽相连,两者之间设有流量计。本实用新型可以大大提高效率,确保药液的稳定性,达到在无人为干扰的情况下制绒效果的一致性。 | ||
搜索关键词: | 用于 多晶 槽式制绒 设备 补液 系统 | ||
【主权项】:
一种用于多晶槽式制绒设备的补液系统,其特征在于,包括原液箱、管路系统、称量槽、混液槽、隔膜泵、流量计、气控阀;原液箱与分别称量槽、混液槽连接,称量槽、混液槽相连,其中原液箱与称量槽之间依次设有隔膜泵、管路系统,原液箱与混液槽之间设置气控阀;称量槽、混液槽相连,两者之间设有流量计。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造