[实用新型]多晶硅生产还原炉启、停炉处理装置有效

专利信息
申请号: 200920272438.X 申请日: 2009-11-16
公开(公告)号: CN201580991U 公开(公告)日: 2010-09-15
发明(设计)人: 唐前正;张新;赵新征;卢涛;彭卡;李品贤 申请(专利权)人: 乐山乐电天威硅业科技有限责任公司
主分类号: C01B33/021 分类号: C01B33/021;C01B33/023;C01B33/03
代理公司: 成都虹桥专利事务所 51124 代理人: 杨冬
地址: 614000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种可缩短还原炉启、停炉用时的多晶硅生产还原炉启、停炉处理装置。该装置包括抽真空装置,抽真空装置通过连接管道与还原炉的尾气出口连接,还原炉的尾气出口与所述连接管道之间设置有排气阀,所述抽真空装置的极限真空度≤0.06MPa。本实用新型以抽真空的方式代替氮气置换的方式对处于启、停炉阶段的还原炉进行处理,将炉内的氧含量、水含量控制到安全生产的许可范围,既缩短了处理时间,提高了工作效率,同时也提高了安全性。
搜索关键词: 多晶 生产 还原 处理 装置
【主权项】:
多晶硅生产还原炉启、停炉处理装置,包括抽真空装置(1),其特征是:抽真空装置(1)通过连接管道(5)与还原炉(4)的尾气出口连接,还原炉(4)的尾气出口与所述连接管道(5)之间设置有排气阀(3),所述抽真空装置(1)的极限真空度≥0.06MPa。
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