[实用新型]高速无等离子体硅刻蚀系统有效
| 申请号： | 200920313341.9 | 申请日： | 2009-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN201567390U | 公开（公告）日： | 2010-09-01 |
| 发明（设计）人： | 景玉鹏;王磊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | C30B33/12 | 分类号： | C30B33/12;C23F4/00;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 100029 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种高速无等离子体硅刻蚀系统，属于半导体技术领域。该系统包括：容纳刻蚀材料的供料装置；与供料装置连接的刻蚀腔；刻蚀腔包括：腔体；角度可调整的喷嘴，喷嘴固定于腔体内的一侧；支承待刻蚀硅片的支架，支架固定于腔体内，并且位于喷嘴相对的另一侧；掩蔽板，掩蔽板位于喷嘴与支架之间，固定于腔体内壁，在掩蔽板上与喷嘴对应的位置形成有供刻蚀材料穿过的孔或缝。利用本实用新型，可以解决目前的刻蚀技术中刻蚀选择比差、速率低等问题，能够提高刻蚀速率和刻蚀选择比，并且提高系统的安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 高速 等离子体 刻蚀 系统 | ||
【主权项】：
一种高速无等离子体硅刻蚀系统，其特征在于包括：容纳刻蚀材料的供料装置；与所述供料装置连接的刻蚀腔；所述刻蚀腔包括：腔体；角度可调整的喷嘴，所述喷嘴固定于所述腔体内的一侧；支承待刻蚀硅片的支架，所述支架固定于所述腔体内，并且位于所述喷嘴相对的另一侧；掩蔽板，所述掩蔽板位于所述喷嘴与所述支架之间，固定于所述腔体内壁，在所述掩蔽板上与所述喷嘴对应的位置形成有供刻蚀材料穿过的孔或缝。
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