[实用新型]X光光栅光谱型Wolter镜成像装置无效
申请号: | 200920316930.2 | 申请日: | 2009-12-10 |
公开(公告)号: | CN201594172U | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | 王衍斌;唐永建;陈志梅 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | G03B42/02 | 分类号: | G03B42/02;A61B6/06;G01N23/04 |
代理公司: | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人: | 何勇盛 |
地址: | 621900 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种X光光栅光谱型Wolter镜成像装置。所述成像装置中的X光光源、光栅光谱型Wolter镜、X光光阑、样品架和X光成像CCD设置在同一光轴上。光栅光谱型Wolter镜由Wolter镜与其反射面上的X光反射光栅薄膜构成。本实用新型采用光栅光谱型Wolter镜提高了对x光的收集能力和单色能力,提高成像系统的像质量和像的分辨能力。本实用新型的成像装置可用于科学研究、临床医学和工业无损检测等多个方面。 | ||
搜索关键词: | 光栅 光谱 wolter 成像 装置 | ||
【主权项】:
一种X光光栅光谱型Wolter镜成像装置,其特征在于:所述的成像装置的X光源(1)、光栅光谱型Wolter镜I(2)、X光光阑I(3)、样品架(4)、X光光阑II(5)、光栅光谱型Wolter镜II(6)、X光成像CCD(7)依次设置在同一光轴上;所述光栅光谱型Wolter镜I(2)和光栅光谱型Wolter镜II(6)分别由Wolter镜与Wolter镜反射面上的X光反射光栅薄膜构成。
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