[实用新型]离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机有效

专利信息
申请号: 200920350080.8 申请日: 2009-12-29
公开(公告)号: CN201614404U 公开(公告)日: 2010-10-27
发明(设计)人: 张健;孟凡荣;张军;周景玉;佟辉 申请(专利权)人: 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 白振宇
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及真空镀膜设备,具体地说是一种离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机,包括真空室、真空抽气系统及机架,真空室安装在机架上,真空抽气系统与真空室密封连接;所述真空室内设有与其密封连接的中心转轴,中心转轴的底端与安装在机架上的驱动电机的输出轴相连接;所述中心转轴的两侧对称设有安装在真空室内壁的离子束和弧源,中心转轴上设有与其共同转动的工件架;该工件架位于离子束和弧源的下方。本实用新型在真空室内安装了离子源和弧源,提高了圆柱靶材的利用率;在镀膜时离子源和弧源同时工作,利用离子源提高工作气体的离化率,对薄膜的光洁度和附着力有很大的提高。
搜索关键词: 离子束 辅助 离子镀 真空镀膜
【主权项】:
一种离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机,包括真空室、真空抽气系统及机架,真空室安装在机架上,真空抽气系统与真空室密封连接;其特征在于:所述真空室(4)内设有与其密封连接的中心转轴(14),中心转轴(14)的底端与安装在机架(6)上的驱动电机(5)的输出轴相连接;所述中心转轴(14)的两侧对称设有安装在真空室(4)内壁的离子束(2)和弧源(12),中心转轴(14)上设有与其共同转动的工件架(11);该工件架(11)位于离子束(2)和弧源(12)的下方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司,未经中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200920350080.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top