[实用新型]离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机有效
申请号: | 200920350080.8 | 申请日: | 2009-12-29 |
公开(公告)号: | CN201614404U | 公开(公告)日: | 2010-10-27 |
发明(设计)人: | 张健;孟凡荣;张军;周景玉;佟辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 白振宇 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本实用新型涉及真空镀膜设备,具体地说是一种离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机,包括真空室、真空抽气系统及机架,真空室安装在机架上,真空抽气系统与真空室密封连接;所述真空室内设有与其密封连接的中心转轴,中心转轴的底端与安装在机架上的驱动电机的输出轴相连接;所述中心转轴的两侧对称设有安装在真空室内壁的离子束和弧源,中心转轴上设有与其共同转动的工件架;该工件架位于离子束和弧源的下方。本实用新型在真空室内安装了离子源和弧源,提高了圆柱靶材的利用率;在镀膜时离子源和弧源同时工作,利用离子源提高工作气体的离化率,对薄膜的光洁度和附着力有很大的提高。 | ||
搜索关键词: | 离子束 辅助 离子镀 真空镀膜 | ||
【主权项】:
一种离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机,包括真空室、真空抽气系统及机架,真空室安装在机架上,真空抽气系统与真空室密封连接;其特征在于:所述真空室(4)内设有与其密封连接的中心转轴(14),中心转轴(14)的底端与安装在机架(6)上的驱动电机(5)的输出轴相连接;所述中心转轴(14)的两侧对称设有安装在真空室(4)内壁的离子束(2)和弧源(12),中心转轴(14)上设有与其共同转动的工件架(11);该工件架(11)位于离子束(2)和弧源(12)的下方。
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