[发明专利]使用多个共定位辐射源来照射板件无效
| 申请号： | 200980000188.7 | 申请日： | 2009-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN101970168A | 公开（公告）日： | 2011-02-09 |
| 发明（设计）人： | 季静佳;朱凡;施正荣;斯图亚特·威耐姆 | 申请（专利权）人： | 无锡尚德太阳能电力有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/08 | 分类号： | B23K26/08;H01L21/428 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 梁晓广;关兆辉 |
| 地址： | 214028 中*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明所述的技术是关于使用多个共定位辐射源来照射板件。在许多情况下，多个共定位辐射源中的每一个仅负责照射板件的一个小区域。由此，板件的要被照射的子区域接受来自多个共定位辐射源的相对均匀、相对清晰的辐射。在很多应用之中，这些技术尤其能应用于激光掺杂和激光切割。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 多个共 定位 辐射源 照射 | ||
【主权项】：
一种用于照射板件的方法，包括：使板件置于第一位置处；使来自第一共定位辐射源的第一辐射照射在位于所述第一位置处的所述板件的第一界定区域内，其中所述第一共定位辐射源是定位在承载所述板件的平台之上的多个共定位辐射源中的一个，其中所述第一界定区域是所述板件的多个界定区域中的一个；使所述板件移动到第二位置；以及使从第二共定位辐射源获得的第二辐射照射在位于所述第二位置处的所述板件的第二界定区域内，其中所述板件固定在所述第二位置处，其中所述第二共定位辐射源是所述多个共定位辐射源中的不同的一个，其中所述第二界定区域是所述板件的所述多个界定区域中的不同一个。
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