[发明专利]位置测量系统及位置测量方法、移动体装置、移动体驱动方法、曝光装置及曝光方法、图案形成装置、以及组件制造方法有效
申请号: | 200980100313.1 | 申请日: | 2009-02-06 |
公开(公告)号: | CN101796614A | 公开(公告)日: | 2010-08-04 |
发明(设计)人: | 牧野内进 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G01B11/00;G01D5/36;G03F7/20;H01L21/68 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 许海兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的位置测量系统,在载台下面固定有设置了移动光栅(34Y,34X,36Y,36X)的反射镜区块(30)。在与载台下面相对向的载台座上面,配置有固定光栅(38Y1,38Y2,38X)。包含移动光栅(34Y,36Y)及固定光栅(38Y1,38Y2),而构成对载台的Y位置信息进行测量的Y编码器(20Y1,20Y2)。同样地,包含移动光栅(34X,36X)及固定光栅(38X),而构成对载台的X位置信息进行测量的X编码器(20X)。 | ||
搜索关键词: | 位置 测量 系统 测量方法 移动 装置 驱动 方法 曝光 图案 形成 以及 组件 制造 | ||
【主权项】:
一种位置测量系统,对沿着包含相互正交的第1轴及第2轴的规定平面移动的移动体的位置信息进行测量,上述位置测量系统的特征在于包括:第1固定光栅及第2固定光栅,在上述移动体的外部分别延伸设置于平行于上述第1轴的方向,其中上述第1固定光栅以平行于上述第1轴的方向为周期方向,上述第2固定光栅以平行于上述第2轴的方向为周期方向;光学构件,具有把与上述第1及第2固定光栅的周期方向对应的方向分别作为其周期方向的第1及第2移动光栅,并被安装于上述移动体;以及第1及第2感光系统,分别对应于上述第1及第2固定光栅,包含上述第1固定光栅、上述第1移动光栅、及上述第1感光系统,构成对与平行于上述第1轴的方向相关的上述移动体的位置信息进行测量的第1测量装置,包含上述第2固定光栅、上述第2移动光栅、及上述第2感光系统,构成对与平行于上述第2轴的方向相关的上述移动体的位置信息进行测量的第2测量装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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