[发明专利]向电子源供电的设备和方法以及离子轰击致二次发射电子源有效
申请号: | 200980101928.6 | 申请日: | 2009-01-08 |
公开(公告)号: | CN101952927A | 公开(公告)日: | 2011-01-19 |
发明(设计)人: | 马克西姆·马卡罗夫 | 申请(专利权)人: | 埃克西可集团公司 |
主分类号: | H01J3/02 | 分类号: | H01J3/02 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 张文;黄启行 |
地址: | 比利时*** | 国省代码: | 比利时;BE |
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摘要: | 一种用于低压室中的离子轰击致二次发射电子源的电源设备(14),包括:控制输入端;两个高电压输出端;用于在一个高电压输出端产生多个正脉冲的装置;以及用于在所述正脉冲中的至少一些脉冲之后在另一个高压输出端产生负脉冲的装置。 | ||
搜索关键词: | 电子 供电 设备 方法 以及 离子 轰击 二次 发射 | ||
【主权项】:
一种用于低压室中的离子轰击致二次发射电子源的电源设备(14),其包括控制输入端和两个高电压输出端,其特征在于所述电源设备包括:用于在一个高电压输出端产生多个正脉冲的装置;以及用于在所述正脉冲中的至少一些脉冲之后在另一个高压输出端产生负脉冲的装置。
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