[发明专利]用于交叉点可变电阻材料存储器的三维和三维肖特基二极管、其形成工艺及其使用方法有效

专利信息
申请号: 200980102418.0 申请日: 2009-01-16
公开(公告)号: CN101911298A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 刘峻;迈克尔·P·瓦奥莱特 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247;H01L29/872
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 沈锦华
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种可变电阻材料存储器(VRMM)装置包括容器型导体,其安置于耦合到VRMM的外延半导电突起上方。VRMM装置还可包括位于凹部中的耦合到VRMM的导电插塞。VRMM阵列还可包括位于周围凹部中的耦合到VRMM的导电插塞。设备包括具有二极管构造中的一者的VRMM。
搜索关键词: 用于 交叉点 可变 电阻 材料 存储器 维和 三维 肖特基 二极管 形成 工艺 及其 使用方法
【主权项】:
一种工艺,其包含:在膜上形成外延突起;在所述外延突起上方保形地形成容器型导体;在所述容器型导体上方和之上形成电极;以及将所述电极耦合到可变电阻材料存储器(VRMM)单元。
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