[发明专利]具有流量均衡器与下内衬的蚀刻腔室有效
| 申请号： | 200980103385.1 | 申请日： | 2009-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN101926232A | 公开（公告）日： | 2010-12-22 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·D·卡达希;劳建邦;卡洛·贝拉;迈克尔·C·库特内;马修·L·米勒 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H05H1/34 | 分类号： | H05H1/34;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 宋鹤;南霆 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明揭示一种具有下流量均衡器(lowered flow equalizer)与下腔室内衬的等离子体处理腔室。在蚀刻处理中，可能从处理腔室不均匀地抽吸处理气体，这将导致不均匀的衬底蚀刻。通过将从腔室排出的处理气体的流量均等化，可以达成更均匀的蚀刻。通过将流量均衡器电气耦接到腔室内衬，来自流量均衡器的RF返回路径可以沿着腔室内衬行进，因此减少了处理期间被抽吸到衬底下方的等离子体的量。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 流量 均衡器 内衬 蚀刻 | ||
【主权项】：
一种内衬，包含：内衬主体，具有：内壁，其延伸到第一高度；外壁，其延伸到不同于所述第一高度的第二高度；以及底壁，其耦接在所述内壁与所述外壁之间，其中，所述底壁与所述外壁各具有穿过其间的复数个气体通道，其中，所述外壁的至少两个气体通道具有不同尺寸，并且其中，所述底壁的至少两个气体通道具有不同尺寸。
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