[发明专利]基板的法线方位的调整方法有效
| 申请号： | 200980103426.7 | 申请日： | 2009-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN101933091A | 公开（公告）日： | 2010-12-29 |
| 发明（设计）人： | 冈山佳树;滨田胜俊;塚本博则 | 申请（专利权）人： | 日本电产株式会社 |
| 主分类号： | G11B19/20 | 分类号： | G11B19/20;G11B33/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王轶;李伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板的法线方位的调整方法，其特征在于：在基板的法线方位的调整方法中，在照射脉冲激光的预定区域内，使照射上述脉冲激光的部位为多个，根据使上述法线方位变化的方向决定上述预定区域的中心位置和范围，通过增减上述预定区域内的照射上述脉冲激光的部位的数量来增减使上述法线方位变化的量，对于照射上述脉冲激光的部位的分布密度，在增加上述照射的部位的情况下上述分布密度增高，在减少上述照射的部位的情况下上述分布密度降低，上述脉冲激光的振荡条件与使上述法线方位变化的方向和量无关，实质上是恒定的。 | ||
| 搜索关键词： | 法线 方位 调整 方法 | ||
【主权项】：
一种基板的法线方位的调整方法，根据使基板上的某一特定区域的法线方位变化的方向和量，对所述特定区域的周围的预定区域照射会聚的脉冲激光而使其局部熔融、冷却，由此使所述特定区域的法线方位变化，所述基板的法线方位的调整方法的特征在于：在照射所述脉冲激光的预定区域内，使照射所述脉冲激光的部位为多个，根据使所述法线方位变化的方向决定所述预定区域的中心位置和范围，通过增减所述预定区域内的照射所述脉冲激光的部位的数量来增减使所述法线方位变化的量，对于照射所述脉冲激光的部位的分布密度，在增加所述照射的部位的情况下所述分布密度增高，在减少所述照射的部位的情况下所述分布密度降低，所述脉冲激光的振荡条件与使所述法线方位变化的方向和量无关，实质上是恒定的。
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