[发明专利]构造和布置以产生辐射的装置、光刻设备以及器件制造方法无效
| 申请号： | 200980106786.2 | 申请日： | 2009-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN101960926A | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | M·M·J·W·范赫彭;W·A·索尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种装置被构造和被布置成使用通过气体介质的放电来产生辐射。所述装置包括第一电极和第二电极(12a、12b)；和液体供给装置，其被布置成提供液体至所述装置中的位置上。所述装置被布置成电供给有电压，且将电压至少部分地供给至第一电极和第二电极，用于允许在由电压产生的电场中产生放电。放电产生辐射等离子体。所述装置还包括防护装置，其布置在放电位置(13)和连接至第一电极和/或第二电极的导电部件(11a)之间。 | ||
| 搜索关键词： | 构造 布置 产生 辐射 装置 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种被构造和被布置以使用通过气体介质的放电来产生辐射的装置，所述装置包括：第一电极和第二电极；液体供给装置，所述液体供给装置被布置成提供液体至所述装置中的位置；所述装置被布置成电供给有电压，且将所述电压至少部分地供给至所述第一电极和所述第二电极，以便允许在由所述电压产生的电场中产生所述放电，所述放电产生辐射等离子体；以及防护装置，所述防护装置被布置在所述放电位置和被连接至所述第一电极和/或所述第二电极的导电部件之间。
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