[发明专利]微电子基底清洁组合物有效
| 申请号： | 200980106838.6 | 申请日： | 2009-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN101959977A | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | 威廉·R·格米尔 | 申请（专利权）人： | 马林克罗特贝克公司 |
| 主分类号： | C09D9/00 | 分类号： | C09D9/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 曹立莉 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 微电子清洁组合物，其包含：a)该组合物约80％至约99％重量的至少一种有机砜；b)该组合物约0.5％至约19％重量的水；和c)该组合物约0.5％至约10％重量的至少一种提供四氟硼酸根离子的组分，和d)任选至少一种多元醇。其尤其用于从具有Si基抗反射涂层和低k电介质的微电子基底或设备清洁蚀刻/灰化残余物。 | ||
| 搜索关键词： | 微电子 基底 清洁 组合 | ||
【主权项】：
微电子基底清洁组合物，其包含：a)该组合物约80％至约99％重量的至少一种有机砜；b)该组合物约0.25％至约19％重量的水；和c)该组合物约0.25％至约10％重量的至少一种提供四氟硼酸根离子的组分其中该组合物作为10％重量水溶液的pH为3或更小。
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