[发明专利]光刻设备和方法无效

专利信息
申请号: 200980107411.8 申请日: 2009-03-02
公开(公告)号: CN101960387A 公开(公告)日: 2011-01-26
发明(设计)人: H·本特勒;P·J·M·范吉尔斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种可控地驱动电动致动器的驱动系统包括:电流传感器系统(143),所述电流传感器系统感测由所述致动器(M1)传导的电流(I);和驱动器(141),所述驱动器基于所述电流传感器系统的输出信号电动地驱动所述致动器。所述电流传感器系统包括至少第一电流传感器(144、146)和第二电流传感器(145、147),所述第一电流传感器和第二电流传感器对于将感测的电流具有彼此不同的灵敏度,所述驱动系统包括电流传感器控制器(148),所述电流传感器控制器控制所述电流传感器中的每一个确定所述电流传感器系统的所述输出信号的程度。
搜索关键词: 光刻 设备 方法
【主权项】:
一种驱动系统,所述驱动系统被配置成可控地驱动电动致动器,所述驱动系统包括:电流传感器系统,所述电流传感器系统被配置成感测由所述电动致动器传导的电流,所述电流传感器系统包括至少第一电流传感器和第二电流传感器,所述第一电流传感器和第二电流传感器对于待感测的电流具有彼此不同的灵敏度;和驱动器,所述驱动器被配置成基于所述电流传感器系统的输出信号电动地驱动所述电动致动器,所述驱动器包括电流传感器控制器,所述电流传感器控制器被配置成控制所述至少第一和第二电流传感器中的每一个确定所述电流传感器系统的所述输出信号的程度。
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