[发明专利]X射线成像装置、X射线成像方法和X射线成像装置的控制方法有效
申请号: | 200980108149.9 | 申请日: | 2009-03-11 |
公开(公告)号: | CN101960298A | 公开(公告)日: | 2011-01-26 |
发明(设计)人: | 向出大平;高田一广;渡边壮俊 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04;G01N23/20;G21K7/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 康建忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种简化的X射线成像装置即使对于轻元素也能够以小的误差因数计算确定有效原子序数。X射线成像装置具有用于产生X射线的X射线产生单元101(400)和用于检测透过被检体104(403)的X射线的检测器105(405)。计算单元106(406)从由检测器检测的数据计算确定可归因于被检体的X射线相位的量和被检体的X射线透射率。计算单元还从由X射线相位的量确定的ρet和由X射线透射率确定的μt计算确定被检体的有效原子序数。 | ||
搜索关键词: | 射线 成像 装置 方法 控制 | ||
【主权项】:
一种X射线成像装置,包括:X射线产生单元,用于产生X射线;X射线分割元件,用于空间分割从X射线产生单元发射的X射线;检测器,用于检测由X射线分割元件分割的并透过被检体的X射线;和计算单元,用于从由检测器检测的数据计算确定可归因于被检体的X射线偏移量和被检体的X射线透射率,并进一步从由X射线偏移量确定的ρet(ρe:电子密度,t:被检体的厚度)和由X射线透射率确定的μt(μ:线性衰减系数)计算确定被检体的有效原子序数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980108149.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基于模糊分类的帧间误码掩盖方法
- 下一篇:用于安全阀的测试设备和方法