[发明专利]具有改进的耐磨损性的负性工作可成像元件

摘要

用辐射敏感性可成像层制备的负性工作可成像元件，该辐射敏感性可成像层含有表面改性的二氧化硅颗粒例如热解法二氧化硅颗粒和溶胶凝胶二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约1-大约40重量％的量存在，具有大约1-大约500nm的平均粒度，具有表面羟基，并具有大约0.5-大约15重量％的源自含1-30个碳原子的表面疏水性基团的碳含量。所述表面改性的二氧化硅颗粒的存在提供改进的耐磨性、降低的粘性和各种其它期望的性能。

主权项

一种负性工作可成像元件，包括其上具有可成像层的基材，该可成像层包含：可自由基聚合组分，在暴露于成像辐射中时提供自由基的引发剂组合物，辐射吸收性化合物，聚合物粘结剂，和表面改性的二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约1‑大约40重量％的量存在，具有大约1‑大约500nm的平均粒度，具有表面羟基，并具有大约0.5‑大约15重量％的源自含1‑30个碳原子的表面疏水性基团的碳含量。