[发明专利]单晶制造装置及单晶的制造方法有效
申请号: | 200980109099.6 | 申请日: | 2009-02-17 |
公开(公告)号: | CN101970728A | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | 阿部孝夫 | 申请(专利权)人: | 信越半导体股份有限公司 |
主分类号: | C30B29/06 | 分类号: | C30B29/06;C30B15/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 郑小军;冯志云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明是涉及一种单晶制造装置及单晶的制造方法,该单晶制造装置(10),是根据切克劳斯基法来实行的单晶制造装置(10),具备主腔室(11),用以收容包含坩埚(13)的热区零件;及拉拔腔室(12),用于收纳从已收容在坩埚(13)内的原料熔液被提拉上来的单晶,然后加以取出;其中,进而具备要被配置在坩埚上且有冷却介质流通的冷却管(1)、及使该冷却管(1)上下移动的移动机构(3),而在培育单晶后,利用移动机构(3),使冷却管(1)朝向坩埚(13)下降,来冷却热区零件。由此,提供一种单晶制造装置及单晶的制造方法,在提拉大口径例如200mm以上的单晶后,能在短时间内冷却主腔室内的热区零件。 | ||
搜索关键词: | 制造 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种单晶制造装置,是根据切克劳斯基法来实行的单晶制造装置,至少具备主腔室,用以收容包含坩埚的热区零件;及拉拔腔室,用于收纳从已收容在前述坩埚内的原料熔液被提拉上来的单晶,然后加以取出;该单晶制造装置的特征在于:进而具备要被配置在前述坩埚上且有冷却介质流通的冷却管、及使该冷却管上下移动的移动机构,而在培育前述单晶后,利用前述移动机构,使前述冷却管朝向前述坩埚下降,来冷却前述热区零件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信越半导体股份有限公司,未经信越半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980109099.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。