[发明专利]靶交换式等离子发生装置有效
申请号: | 200980109117.0 | 申请日: | 2009-03-04 |
公开(公告)号: | CN101970711A | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | 椎名祐一 | 申请(专利权)人: | 日本磁性技术株式会社 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 何腾云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供能够独立地调整2个靶的位置的靶交换式等离子发生装置。在本发明的靶交换式等离子发生装置中,设在由真空电弧放电发生等离子的等离子发生装置的靶交换机构(6)包含由主马达(M)进行半旋转驱动的主保持架(32),设置在它们的直径方向的相向位置的收容部(32a、32b),能够自由旋转地收容在收容部(32a、32b)的副保持架(16、18),使它们自转的2个副马达(M1、M2),使副保持架(16、18)在其自转轴方向升降的滑块(S1、S2),及嵌合在副保持架(16、18)的靶(T1、T2);使主保持架(32)进行半旋转,交换靶(T1、T2)的位置,在主保持架(32)不动时独立地将靶(T1、T2)升降自转驱动到放电位置和研磨位置。 | ||
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【主权项】:
一种靶交换式等离子发生装置,所述靶交换式等离子发生装置具有等离子发生部、靶研磨部、及靶交换机构;该等离子发生部在真空气氛下在成为阴极的靶与阳极间由真空电弧放电产生等离子;该靶研磨部对所述靶的放电面进行研磨;该靶交换机构交换配置在所述等离子发生部的放电位置的靶和配置在所述靶研磨部的研磨位置的靶的位置;其特征在于:所述靶交换机构由主保持架、2个收容部、2个副保持架、2个副马达、2个滑块、及2个所述靶构成;该主保持架由主马达进行半旋转驱动;该2个收容部设在所述主保持架的直径方向的相向位置;该2个副保持架能够自由旋转地收容在2个所述收容部;该2个副马达使2个所述副保持架自转;该2个滑块使2个所述副保持架在其自转轴方向升降;该2个所述靶与2个所述副保持架嵌合;使所述主保持架半旋转而交换2个所述靶的位置,在所述主保持架不动时将2个所述靶独立地升降自转驱动到所述放电位置和所述研磨位置。
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