[发明专利]具有测量装置的用于微光刻的投射曝光系统有效
| 申请号： | 200980109261.4 | 申请日： | 2009-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN101978323A | 公开（公告）日： | 2011-02-16 |
| 发明（设计）人： | 乌尔里克·米勒;乔基姆·施图勒;奥斯瓦尔德·格罗默;罗尔夫·弗赖曼;保罗·考夫曼;伯恩哈德·格珀特 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 提供用于微光刻的投射曝光系统(10)。该投射曝光系统包括：用于支撑于其上布置有掩模结构(20)的掩模(18)的掩模支撑装置(14)；用于支撑基底(30)的基底支撑装置(36)；投射光学部件，用于在曝光过程期间将所述掩模结构(20)成像到所述基底(30)上；和测量结构(48)，该测量结构布置在相对于所述投射曝光系统(10)的基准元件(16)的确定的位置中，该确定的位置从所述掩模支撑装置(14)的位置机械解耦。所述投射曝光系统(10)还包括探测器(52)以及估算装置(54)，该探测器(52)布置用于记录通过借助所述投射光学部件(26)对所述测量结构进行成像而产生的所述测量结构的像，所述投射曝光系统(10)被配置从而在投射曝光系统(10)的操作期间，借助所述投射光学部件(26)同时分别进行所述掩模结构(20)的成像和所述测量结构(48)的成像；估算装置(54)配置为在所述曝光过程期间在所述探测器(52)的区域中获得所述测量结构(48)的像的横向位置。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 测量 装置 用于 微光 投射 曝光 系统 | ||
【主权项】：
一种用于微光刻的投射曝光系统，包括：‑用于支撑掩模的掩模支撑装置，在该掩模上布置有掩模结构，‑用于支撑基底的基底支撑装置，‑投射光学部件，用于在曝光过程期间将所述掩模结构成像到所述基底上，‑测量结构，该测量结构位于相对于所述投射曝光系统的基准元件的确定的位置中，该确定的位置从所述掩模支撑装置的位置机械解耦，‑探测器，布置用于记录通过借助所述投射光学部件对测量结构进行成像而产生的测量结构的像，所述投射曝光系统被配置从而在所述投射曝光系统的操作期间，借助所述投射光学部件同时分别进行将所述掩模结构成像到所述基底上以及所述测量结构的成像，以及‑估算装置，其配置为在所述曝光过程期间在所述探测器区域中获得所述测量结构的像的横向位置。
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