[发明专利]真空处理装置有效
| 申请号： | 200980109535.X | 申请日： | 2009-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN101978307A | 公开（公告）日： | 2011-02-16 |
| 发明（设计）人： | 安成一;曹生贤 | 申请（专利权）人： | IPS株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 瞿卫军 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及真空处理装置，具体涉及对用于LCD控制板的玻璃等基板进行所相关的蚀刻、蒸发等真空处理的真空处理装置。本发明所提供的真空处理装置包括相互连接形成对基板进行真空处理的处理空间的腔体本体以及上部盖子、设置于所述上部盖子的下侧，向所述处理空间进行气体供给的喷头部以及为了对所述喷头部的边缘部位进行支持而设置于所述腔体本体以及所述上部盖子之间的辅助盖子。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种真空处理装置，其特征在于，所述真空处理装置包括：相互连接形成对基板进行真空处理的处理空间的腔体本体以及上部盖子；设置于所述上部盖子的下侧、向处理空间进行气体供给的喷头部；对所述喷头部的边缘部位进行支持而设置于所述腔体本体以及所述上部盖子之间的辅助盖子。
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